Фотоэлектрический отклик пленок ITO при воздействии УФ излучения - Жидик, Юрий Сергеевич; Верхаланцев, Сергей Максимович; Реннер, Дмитрий Олегович (Materials. Technologies. Design, 2026)
В статье приведены результаты исследований фотоиндуцированных процессов, происходящих в тонких пленках ITO при облучении УФ излучением. Для исследования пленки ITO осаждались на стеклянные подложки в разных технологических режимах, что позволило обеспечить в них заведомо разные начальные концентрации кислородных вакансий и электронов проводимости соответственно. Контроль изменения сопротивления подготовленных образцов ITO при облучении УФ излучением показал его уменьшение, вызванное генерацией носителей заряда за счет разрушения химических связей с адсорбированными на поверхности пленок атомами газов. Наибольшую чувствительность к облучению УФ излучением имеют поликристаллические пленки ITO с низким содержанием кислородных вакансий. Помимо этого, показано, что генерация дополнительных носителей заряда в ITO также обусловлена тепловой ионизацией примесных атомов олова. Кроме того, при УФ экспозиции тонкопленочных структур Al/ITO/Al на металлических контактных площадках был зарегистрирован рост разницы потенциалов. Проведенные исследования фотоэлектрического отклика пленок ITO при воздействии УФ излучения показывают возможность использовать пленки ITO в качестве чувствительного слоя детектора УФ излучения.